产品介绍

LSWN 800 接触式光刻机指掩膜板直接与基板的光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率准确度高，设备简单，线宽可达800nm；可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻，适用于从特殊大小的基片到4尺寸很宽广范围材料的紫外或深紫外光曝光。可广泛应用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的应用。

产品用途

接触式曝光指掩膜板直接与基板的光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率准确度高，设备简单。

1.半导体制造；

2.光电电子、平板；

3.射频微波，衍射光学；

4.微机电系统；

5.凹凸或覆晶设备等。

主要规格

线宽可达800nm，可以配合使用多种型号的正光阻和负光阻。

适用晶片尺寸：样品尺寸不能大于6英寸。

产品特点

1.分辨率准确；

2.更广范围的紫外光波长选择；

3.支持恒定光强或恒定功率模式；

4.广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；