产品介绍

LSWN 160 磁控溅射镀膜机是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜，亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。可广泛应用溅镀方式在样品表面沉积数微米以下的薄膜，可制备包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质。

产品用途

用溅镀方式在样品表面沉积数微米以下的薄膜，可制备包括各种金属、半导体、铁磁材料,以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质。

产品规格

可依序进行6个靶材的溅镀；同时进行2个靶材的溅镀；可溅镀范围4英寸以内；真空度8×10 -8torr，厚度均匀性误差<±5%，溅镀数微米以下的。

适用晶片尺寸：样品尺寸不能大于6英寸；

可溅镀的材料：金属类Al、Cu、Gr、Co、Fe、Ni、Pt、Ag、Ti、Ta；合金类NiFe、CoFe、CoFeB、NiMn、FeMn、TbFeCo；氧化物类MgO等。

实测案例

用溅镀方式在样品表面沉积数微米以下的薄膜，可制备包括各种金属、半导体、铁磁材料，以及绝缘的氧化物、陶瓷等物质。

溅镀膜厚测试